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       光催化氧化設(shè)備工作原理：

       光氧催化主要是在光解催化凈化設(shè)備中對(duì)*揮發(fā)性廢氣主要進(jìn)行光解與催化氧化。光氧催化法具有壽命長(zhǎng)、去除污染物效率高、適應(yīng)范圍廣、運(yùn)行成本低、設(shè)備占地面積小等優(yōu)點(diǎn)。

本產(chǎn)品利用特制的高能UV紫外線光束照射廢氣，裂解工業(yè)廢氣如：氨、*胺、硫化氫、甲硫氫、甲硫醇、甲硫醚、乙酸丁酯、乙酸乙酯、二甲二硫、二硫化碳和苯乙烯，硫化物H2S、VOC類(lèi)，苯、甲苯、二甲苯的分子鏈結(jié)構(gòu)，使*或無(wú)機(jī)高分子惡臭化合物分子鏈，在高能紫外線光束照射下，降解轉(zhuǎn)變成低分子化合物，如CO2、H2O等。

氣體污染物可以通過(guò)紫外光解，由于UV管產(chǎn)生的能量低，大部分分子鍵無(wú)法打開(kāi)，只能使其部分?jǐn)嗔鸦蛘哌B接不穩(wěn)定。因此UV燈管后面插入催化氧化板，UV產(chǎn)生的HO?高能活化集團(tuán)在催化氧化板上發(fā)生催化氧化作用，從而使廢氣*終大部分生成二氧化碳和水。光氧催化反應(yīng)方程式為：

       氣體化合物 hn? CO2 H2O

       以硫化氫為例，UV光氧催化分解污染物原理見(jiàn)下圖：

       紫外線是指電磁波譜中范圍在100～380nm的輻射總稱。254nm波段紫外線可用于氧化及*處理。185nm波段紫外線主要用于*氧化（VUV真空紫外段）。

       185nm-254nm波段之間的紫外線配合納米催化板可以有效增加光氧的反應(yīng)活性。紫外光源輸出光譜見(jiàn)下圖：

       紫外光源輸出光譜

              （1）污染物能否被裂解，取決于其化學(xué)鍵鍵能是否比所提供的UV光子的能量要低。

              （2）裂解反應(yīng)的時(shí)間極短（＜0.01s），氧化反應(yīng)的時(shí)間需2-3s。

              （3）提供的UV光子總功率不夠或者含氧量不足，會(huì)因?yàn)榱呀饣蜓趸煌耆梢恍┲虚g副產(chǎn)物，從而影響凈化效率。對(duì)于高濃度大分子的*污染物質(zhì)體現(xiàn)得較為明顯。

              （4）UV光解凈化的長(zhǎng)期穩(wěn)定、*，需要反應(yīng)溫度＜80℃，粉塵量＜100mg/m3，相對(duì)濕度＜99%。

              （5）廢氣物質(zhì)中若某種特殊化學(xué)元素的含有量過(guò)高（如Cl、F等），會(huì)導(dǎo)致強(qiáng)化劑臭氧的生成量大大降低，*終影響總體的凈化*。

       光催化氧化技術(shù)的核心為三相催化氧化，由風(fēng)機(jī)引入本體內(nèi)的空氣(氣相)，一定波長(zhǎng)的紫外光波（光相），和固定在載體上的催化劑（固相）。在光催化氧化反應(yīng)中，通過(guò)紫外光照射在納米光催化劑上產(chǎn)生電子空穴對(duì)，與空氣中的水分子（H2O）和氧氣（O2）反應(yīng)生成氧化性很活潑的羥基自由基（OH-）和超氧離子自由基（O2-、0-）。能夠把各種*、無(wú)機(jī)惡臭氣體如醛類(lèi)、苯類(lèi)、氨類(lèi)、氮氧化物、硫化物以及其它VOC在光催化氧化的作用下還原成二氧化碳（CO2）、水（H2O）以及其它*無(wú)害物質(zhì)，由于在光催化氧化反應(yīng)過(guò)程中無(wú)任何添加劑，所以不會(huì)產(chǎn)生二次污染。

       空穴反應(yīng)：

       實(shí)驗(yàn)證明，根據(jù)氣體成分不同，選擇性加入（CuO、Al2O3、BaTiO3、Al2O3 Pd、TiO2）等催化劑可大大提高苯類(lèi)物質(zhì)的轉(zhuǎn)化率，具有很好的協(xié)同作用。本工藝采用專(zhuān)有配方生產(chǎn)的催化劑，對(duì)苯類(lèi)*物具有非常好的分解*。此工藝的核心在于光源波長(zhǎng)選擇和催化劑的制備，兩者要匹配，且要根據(jù)處理對(duì)象的不同而做調(diào)整。

       光催化氧化設(shè)備技術(shù)性能及特點(diǎn)：

              A、壽命長(zhǎng)：真空紫外燈在0-80℃的環(huán)境下都可以正常工作，電極使用壽命長(zhǎng)，其使用壽命長(zhǎng)，燈管透光率高，能夠*大限度的為企業(yè)減少成本和維修時(shí)間。

              B、*去除惡臭及*廢氣。UV光解設(shè)備能夠*的去除揮發(fā)性*物（VOC）、無(wú)機(jī)物、硫化氫、氨氣、硫醇類(lèi)等主要污染物，以及各種惡臭味，脫臭效率≥99%以上。美國(guó)環(huán)保署公布的九大類(lèi)114 種污染物均被證實(shí)可通過(guò)光解催化氧化得到治理，即使對(duì)原子*物如鹵代烴、燃料、含氮*物、*磷殺蟲(chóng)劑也須有很好的去除*。

              C、適用范圍廣：可適應(yīng)高、低濃度，大氣量，不同廢氣物質(zhì)的脫臭凈化處理，可連續(xù)工作，運(yùn)行穩(wěn)定可靠。

              D、運(yùn)行成本低：本設(shè)備無(wú)任何機(jī)械動(dòng)作，無(wú)噪音，無(wú)需專(zhuān)人管理和日常維護(hù)，只需作定期檢查，本設(shè)備能耗低，設(shè)備風(fēng)阻極低，可節(jié)約大量排風(fēng)動(dòng)力能耗。

              E、設(shè)備占地面積?。鹤灾剌p：適合于布置緊湊、場(chǎng)地狹小等特殊條件。

              F、采用*進(jìn)口材料制造：防水、防火、防腐蝕，使用壽命長(zhǎng)。

              G、科技含量高：采用先進(jìn)的*氧化技術(shù)，突破單一體系的反應(yīng)局限，在整個(gè)反應(yīng)體系中，以紫外光線和高能的·OH 參與反應(yīng)，使得污染物去除效率更高，可無(wú)害化排放，無(wú)二次污染。